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半导体超纯水系统工艺先容

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宣布时间：2024-02-27 10:54

半导体超纯水系统工艺先容

超纯水要求尽可能去除水中的离子DO(消融氧)TOC(总有机碳)等杂质，使其因素无限趋近于100%的水分子，25℃时理论电阻率可达18.3Mcm]以应用于对水质纯度要求极高的场合 。在半导体产品生产历程中，超纯水主要用于洗濯州产品，其水质对产品质量、性能会爆发重大影响，稳固的超纯水系统成为半导体产线不可或缺的配套系统之一 。

现在，在半导体行业获得普遍应用的超纯水制备手艺主要有离子交流法和电去离子法(EDI)其中离子交流法主要通过离子交流树脂吸附水中的阴、阳离子，提高电阻率，同时设置去除DO、降解 TOC的装置，该工艺具有制备水量大、出水水质稳固、工艺成熟、运行稳固、操作难度低、运行本钱低等优点 。

离子交流法是超纯水系统常用的2种成熟工艺蹊径之一，已在电子、医药、化工等行业超纯水制备系统中获得普遍应用，也是最适合本项目需求的工艺蹊径 。上海新利体育将从设计和装备设置，各系统装备造价组成、主要装备造价组成3个方面剖析了项目造价情形:装备是影响质料部分造价的主要因素，占比靠近50%;半导体超纯水制备系统焦点质料仍以入口为主抛光系统和MAKEUP系统装备是装备总造价的绝对主体，占比靠近70%;TOC-UV、树脂、脱气膜价钱腾贵，合计占装备总造价比例靠近60% 。本项目工艺设计、造价信息可供类似项目参考 。

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